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進(jìn)口電化學(xué)工作站需創(chuàng)新發(fā)展

更新時(shí)間:2016-07-27瀏覽:4447次
 進(jìn)口電化學(xué)工作站需創(chuàng)新發(fā)展
    進(jìn)口電化學(xué)工作站將一個(gè)恒電位儀、信號(hào)發(fā)生器和相應(yīng)的控制軟件進(jìn)行有機(jī)的結(jié)合,可以在電腦的控制下完成開(kāi)路電位監(jiān)測(cè)、恒電位(流)極化、動(dòng)電位(流)掃描、循環(huán)伏安、恒電位(流)方波、恒電位(流)階躍以及電化學(xué)噪聲監(jiān)測(cè)等多項(xiàng)測(cè)試功能。進(jìn)口電化學(xué)工作站測(cè)量過(guò)程中可以根據(jù)數(shù)據(jù)實(shí)時(shí)繪圖,能對(duì)電位--電流曲線進(jìn)行各種平滑和數(shù)字濾波處理,并可直接將圖形以矢量方式輸出。進(jìn)口電化學(xué)工作站可直接用于微電極上的穩(wěn)態(tài)電流測(cè)量,應(yīng)用于電分析基礎(chǔ)教學(xué)科研、電池材料研究、生物化學(xué)(傳感器)、有機(jī)電合成基礎(chǔ)及冶金、制藥、環(huán)境分析等領(lǐng)域的研究測(cè)試,基本可滿足所有電化學(xué)教學(xué)和科研領(lǐng)域的應(yīng)用。
    進(jìn)口電化學(xué)工作站的介紹主要以的進(jìn)口電化學(xué)工作站為例,進(jìn)口電化學(xué)工作站分析介紹如下:
    進(jìn)口電化學(xué)工作站由高速M(fèi)CU、高精度FET集成電路組成,內(nèi)置DDS數(shù)字信號(hào)合成器、高功率恒電位/恒電流儀、雙通道相關(guān)分析器和雙通道高速16bit /高精度24bit AD轉(zhuǎn)換器。能完成線性掃描循環(huán)伏安(CV)、階梯波循環(huán)伏安(SCV)、方波循環(huán)伏安(SWV)、差分脈沖伏安(DPV)和常規(guī)脈沖伏安(NPV)以及差分常規(guī)脈沖伏安(DNPV)等電分析方法;還可以完成恒電流(位)極化、動(dòng)電位(流)掃描、任意恒電流(位)方波,多恒電流(位)階躍、零電阻模式電化學(xué)噪聲(電偶電流)、電化學(xué)阻抗(EIS)等電化學(xué)測(cè)試等功能。
    進(jìn)口電化學(xué)工作站包括多種型號(hào)(CS120,CS150,CS300,CS330,CS310,CS350,CS360),進(jìn)口電化學(xué)工作站可用于較大電流和較高槽壓的電化學(xué)測(cè)量和應(yīng)用,例如電池、電分析、腐蝕、電解、電鍍等。進(jìn)口電化學(xué)工作站的電流輸出范圍為±2A,槽壓為±21V。電壓控制范圍:±10V;電流控制范圍:±2.0A;電流測(cè)量下限為10pA。
    CorrTest測(cè)試軟件是CS進(jìn)口電化學(xué)工作站的控制平臺(tái),軟件基于Windows98/ 2000/ XP操作系統(tǒng),并遵守Windows軟件設(shè)計(jì)規(guī)則,易于安裝和使用。進(jìn)口電化學(xué)工作站軟件包括文件管理、實(shí)驗(yàn)方法管理、多坐標(biāo)圖形顯示和縮放、數(shù)據(jù)/圖形的存貯/打印以及交互式幫助等。軟件具有良好的用戶(hù)界面,命令窗口所用的詞匯與通用的電化學(xué)術(shù)語(yǔ)保持一致,全中文菜單和界面,方便用戶(hù)的教學(xué)和科研工作。
    進(jìn)口電化學(xué)工作站的特性以100BWBAS進(jìn)口電化學(xué)工作站為例,進(jìn)口電化學(xué)工作站具體分析如下:
    1.經(jīng)典電化學(xué)分析測(cè)試儀器;
    2.多達(dá)15種電化學(xué)測(cè)試技術(shù);
    3.全自動(dòng)控制參數(shù)及電極;
    4.控制生長(zhǎng)滴汞電極、旋轉(zhuǎn)圓盤(pán)電極等多種電化學(xué)附件;
    5.多功能雙恒電位儀,雙通道同時(shí)掃描;
    6.國(guó)內(nèi)用戶(hù)zui多的進(jìn)口電化學(xué)研究及教學(xué)儀器;
    7.內(nèi)置參數(shù)校正模塊;
    8.全系列應(yīng)用電極,可用于固定化酶研究、電解研究、電分析研究。
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